IEC 62047-8-2011 半导体装置.微电机装置.第8部分:薄膜的拉力特性测量的带状抗弯试验方法
作者:标准资料网 时间:2024-05-21 09:48:47 浏览:9859
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【英文标准名称】:Semiconductordevices-Micro-electromechanicaldevices-Part8:Stripbendingtestmethodfortensilepropertymeasurementofthinfilms
【原文标准名称】:半导体装置.微电机装置.第8部分:薄膜的拉力特性测量的带状抗弯试验方法
【标准号】:IEC62047-8-2011
【标准状态】:现行
【国别】:国际
【发布日期】:2011-03
【实施或试行日期】:
【发布单位】:国际电工委员会(IX-IEC)
【起草单位】:IEC/SC47F
【标准类型】:()
【标准水平】:()
【中文主题词】:弯曲试验;特性;组件;定义(术语);层;材料;测量;测量技术;微电子学;微系统工艺;性能;样品;半导体器件;带材;系统工程;拉伸应变;试验;试验条件;薄膜;薄膜工艺
【英文主题词】:Bendtesting;Characteristics;Components;Definitions;Layers;Materials;Measurement;Measuringtechniques;Microelectronics;Microsystemtechniques;Properties;Samples;Semiconductordevices;Strips;Systemengineering;Tensilestrain;Testing;Testingconditions;Thinfilms;Thin-filmtechnology
【摘要】:
【中国标准分类号】:L40
【国际标准分类号】:31_080_01;31_220_01
【页数】:36P;A4
【正文语种】:英语
【原文标准名称】:半导体装置.微电机装置.第8部分:薄膜的拉力特性测量的带状抗弯试验方法
【标准号】:IEC62047-8-2011
【标准状态】:现行
【国别】:国际
【发布日期】:2011-03
【实施或试行日期】:
【发布单位】:国际电工委员会(IX-IEC)
【起草单位】:IEC/SC47F
【标准类型】:()
【标准水平】:()
【中文主题词】:弯曲试验;特性;组件;定义(术语);层;材料;测量;测量技术;微电子学;微系统工艺;性能;样品;半导体器件;带材;系统工程;拉伸应变;试验;试验条件;薄膜;薄膜工艺
【英文主题词】:Bendtesting;Characteristics;Components;Definitions;Layers;Materials;Measurement;Measuringtechniques;Microelectronics;Microsystemtechniques;Properties;Samples;Semiconductordevices;Strips;Systemengineering;Tensilestrain;Testing;Testingconditions;Thinfilms;Thin-filmtechnology
【摘要】:
【中国标准分类号】:L40
【国际标准分类号】:31_080_01;31_220_01
【页数】:36P;A4
【正文语种】:英语
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