ASTM F1594-1995(2003) 真空镀膜用纯铝(未掺杂质)原材料标准规范
作者:标准资料网 时间:2024-05-10 14:34:54 浏览:9443
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【英文标准名称】:StandardSpecificationforPureAluminum(Unalloyed)SourceMaterialforVacuumCoatingApplications
【原文标准名称】:真空镀膜用纯铝(未掺杂质)原材料标准规范
【标准号】:ASTMF1594-1995(2003)
【标准状态】:现行
【国别】:
【发布日期】:1995
【实施或试行日期】:
【发布单位】:美国材料与试验协会(US-ASTM)
【起草单位】:F01.17
【标准类型】:(Specification)
【标准水平】:()
【中文主题词】:铝导电器;铝电源;纯铝(未掺杂质)原材料;践射目标;真空镀膜用;半导体;薄膜;蒸发
【英文主题词】:aluminumsource;evaporation;thinfilms;vacuumcoating
【摘要】:1.1Thisspecificationcoverspurealuminummetal(unalloyed)foruseasrawmaterialformakingevaporationsources,sputteringtargets,andsuperconductingwires.1.2Thisspecificationsetspuritygradelevels,physicalattributes,analyticalmethods,andpackagingrequirements.
【中国标准分类号】:H61
【国际标准分类号】:25_220_40
【页数】:2P.;A4
【正文语种】:
【原文标准名称】:真空镀膜用纯铝(未掺杂质)原材料标准规范
【标准号】:ASTMF1594-1995(2003)
【标准状态】:现行
【国别】:
【发布日期】:1995
【实施或试行日期】:
【发布单位】:美国材料与试验协会(US-ASTM)
【起草单位】:F01.17
【标准类型】:(Specification)
【标准水平】:()
【中文主题词】:铝导电器;铝电源;纯铝(未掺杂质)原材料;践射目标;真空镀膜用;半导体;薄膜;蒸发
【英文主题词】:aluminumsource;evaporation;thinfilms;vacuumcoating
【摘要】:1.1Thisspecificationcoverspurealuminummetal(unalloyed)foruseasrawmaterialformakingevaporationsources,sputteringtargets,andsuperconductingwires.1.2Thisspecificationsetspuritygradelevels,physicalattributes,analyticalmethods,andpackagingrequirements.
【中国标准分类号】:H61
【国际标准分类号】:25_220_40
【页数】:2P.;A4
【正文语种】:
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